取扱い機器

レーザシステム

UFレーザシステム

超短パルスレーザを用いたレーザ加工、時間分解計測機能、高調波発生機能を一体化したマルチ用途レーザシステムです。

搭載している機能・特徴は以下の通りです。

  • 高精度対物レンズ搭載、超高精度ステージシステム搭載
  • パルスピッカーにより分周が可能
  • 第2高調波、第3高調波、第4高調波発生が可能
  • オプティカルディレイラインを搭載してPump & Probeによる時間分解計測が可能

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NIRレーザ処理装置

500Wファイバーレーザを搭載したレーザ処理装置です。

レーザはパルス化によりDuty可変機能を有しており、XYZステージと組み合わせて多様なレーザ照射による加工が行えます。

加工ヘッドはCMOSカメラによる加工部観察に加えて、ファイバー出力端子を備えているため、プロセスモニターを接続することにより、レーザと同軸で加工部の発光状態を可能にします。

簡易的にはファイバー入力式の小型分光器により加工部の発光分光を行うことができます。

装置写真(背景削除)

オプトエレクトロニクス関連機器

混合粉体分散率計測装置

従来、混合粉体の混合割合を計測するにはX線回折等の手法を用いて強度割合から計測する手段しかありませんでした。

より手軽にとの思いから、色調変化率から混合粉体の各種構成元素の混合指標である分散率(η)を計測する装置を開発しました。

当社では本装置をPMS剤の開発に活用しています。

分散率測定装置

 

新世代画像処理エンジン

残差型ニューラルネットワーク式の画像処理機能搭載エンジンです。

複合カメラの同期、高速化により3次元形状を測定し、僅かな変化も捉えることが可能です。

深層学習機能により従来の画像処理では不可能であった不確定な要素も判別可能になります。

画像検査装置や動体観察等、幅広い用途に適用可能です。

プロセス分光計測装置

ファイバー入力方式にてレーザ加工装置のレーザと同軸で加工プロセスで発生する光を用いてプロセスモニタリングを可能にする装置です。

Duty可変型のレーザと組み合わせてレーザの影響なしに、純粋にプロセスの発光のみを捉えることができます。

任意の発光波長の変化からプロセスの良否判定も可能にしました。

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光放出電子顕微鏡

MyPEEM【光放出電子顕微鏡】

当社では株式会社菅製作所製造の光放出電子顕微鏡の取り扱っています。
光放出電子顕微鏡(PEEM)は、試料にUVの光を照射し、試料最表面から放出される光電子をCCDカメラで取得し表面仕事関数の違いによる2次元の表面電子状態をリアルタイムで取得できる装置です。
輝創株式会社では、本装置に適用可能な特殊レーザ光源を提案しています。

用途

表面の仕事関数の違いを視覚化できるために
・表面での触媒反応過程観察
・電子デバイス表面での2次元仕事関数観察
・機能性薄膜表面での仕事関数の可視化
・Magnetic domain観察
など、従来の技術では見えなかった機能を視覚化する用途にご利用いただけます。

装置外観

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原子層堆積装置

ALD【原子層堆積装置】

当社では株式会社菅製作所の原子層堆積装置を取り扱っています。
Atomic Layer Deposition (ALD)は1974年にフィンランドで発明されました。
ナノテクノロジーの進化により、薄膜も超薄膜による機能が求められるようになってきており、化学反応により1層毎の体積で膜厚の制御が容易なALDが注目を集めています。
株式会社菅製作所では、長年の真空機器、薄膜製造の経験を活かしてSAL-1500型ALD装置を開発しました。SAL-1500はALDに必要な基本機能を全て備え、目的に応じて様々な機能を付加していくことができます。
輝創株式会社ではお客様のご要望を伺い、お客様仕様のカスタマイズしたSAL1500型ALDをご提案させていただいております。

特徴

・安心の日本産ALD装置
・板加熱に加えてHot-wallも可能
・最大10系統のプリカーサ搭載可能
・低・常温プリカーサ搭載可能
・面内分布保証(Al2O3)
・信頼のPLD制御

構成

装置はプリカーサラインを組み込んだ反応部、電源、制御系を組み込んだ制御部及びドライポンプから構成されされています。

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スパッタ装置

キュービックスパッタ装置

株式会社菅製作所では、長年の真空機器、薄膜製造の経験を活かしてSSP1000型キュービックスパッタ装置を開発しました。SSP1000型キュービックスパッタ装置は、目的に応じてサイドスパッタ、スパッタダウン、スパッタアップの3つの成膜方向がスパッタ成膜ができる卓上型小型スパッタ装置です。
SSP1000型キュービックスパッタ装置は小型、均一膜厚、低価格を実現した金属膜、絶縁膜ともに対応可能な小型スパッタ装置です。
輝創株式会社ではお客様のご要望を伺い、お客様仕様のカスタマイズしたスパッタ装置も、ご提案させていただいております。

特徴

・1台で3つの成膜方向が可能
・微小粒子へのスパッタ成膜が可能です。
・基本機能を追求した最高のコストパフォーマンス
・φ4インチ基板
・RF電源による金属、絶縁膜成膜可能
・ターボ分子ポンプ搭載による高真空
・面内分布保証
・卓上型で取扱容易

構成

装置はマッチングボックス、TMPを搭載した成膜装置本体部、電源部ロータリーポンプから構成されています。

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