科学機器

光放出電子顕微鏡

MyPEEM【光放出電子顕微鏡】

当社では株式会社菅製作所製造の光放出電子顕微鏡の取り扱っています。
光放出電子顕微鏡(PEEM)は、試料にUVの光を照射し、試料最表面から放出される光電子をCCDカメラで取得し表面仕事関数の違いによる2次元の表面電子状態をリアルタイムで取得できる装置です。
輝創株式会社では、本装置に適用可能な特殊レーザ光源を提案しています。

用途

表面の仕事関数の違いを視覚化できるために
・表面での触媒反応過程観察
・電子デバイス表面での2次元仕事関数観察
・機能性薄膜表面での仕事関数の可視化
・Magnetic domain観察
など、従来の技術では見えなかった機能を視覚化する用途にご利用いただけます。

特徴

・励起光源としてUV光源を利用し、観察室外からビューポートを介して照射する構造の為、各種光源への変更も容易に行えます。
・仕事関数(電子状態)の違いをリアルタイムで2次元観察できます。
・静電レンズを用いて2次元顕微観察ができます。
・収差補正機能を搭載しています。
・光増幅型CCDを搭載しています。
・コントラストアパーチャーを選択できます。
・観測室へのガス導入が可能です。

装置外観

PEEM

構成

装置はPEEM観測室、ロードロック、制御電源、超高真空排気系から構成されされています。
ご要望に応じて、レーザ等の特殊光源への変更など、ご要望に応じた特殊仕様への変更も可能です。

原子層堆積装置

ALD【原子層堆積装置】

当社では株式会社菅製作所の原子層堆積装置を取り扱っています。
Atomic Layer Deposition (ALD)は1974年にフィンランドで発明されました。
ナノテクノロジーの進化により、薄膜も超薄膜による機能が求められるようになってきており、化学反応により1層毎の体積で膜厚の制御が容易なALDが注目を集めています。
株式会社菅製作所では、長年の真空機器、薄膜製造の経験を活かしてSAL-1500型ALD装置を開発しました。SAL-1500はALDに必要な基本機能を全て備え、目的に応じて様々な機能を付加していくことができます。
輝創株式会社ではお客様のご要望を伺い、お客様仕様のカスタマイズしたSAL1500型ALDをご提案させていただいております。

特徴

・安心の日本産ALD装置
・板加熱に加えてHot-wallも可能
・最大10系統のプリカーサ搭載可能
・低・常温プリカーサ搭載可能
・面内分布保証(Al2O3)
・信頼のPLD制御

基本仕様

型式 SAL1500シリーズ
基板サイズ 4インチ
膜均一性 ±2%
反応容器構造 SUS304
加熱方式 基板加熱
加熱最高温度 350℃
プリカーサ数 最大10系統
プリカーサ温度 制御機能有
動作モード 連続ガスフロー
バルブ速度(最小) 15ms
キャリアガス N2またはAr
真空系 ドライポンプ
制御方式 PLC制御

構成

装置はプリカーサラインを組み込んだ反応部、電源、制御系を組み込んだ制御部及びドライポンプから構成されされています。

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スパッタ装置

キュービックスパッタ装置

株式会社菅製作所では、長年の真空機器、薄膜製造の経験を活かしてSSP1000型キュービックスパッタ装置を開発しました。SSP1000型キュービックスパッタ装置は、目的に応じてサイドスパッタ、スパッタダウン、スパッタアップの3つの成膜方向がスパッタ成膜ができる卓上型小型スパッタ装置です。
SSP1000型キュービックスパッタ装置は小型、均一膜厚、低価格を実現した金属膜、絶縁膜ともに対応可能な小型スパッタ装置です。
輝創株式会社ではお客様のご要望を伺い、お客様仕様のカスタマイズしたスパッタ装置も、ご提案させていただいております。

特徴

・1台で3つの成膜方向が可能
・微小粒子へのスパッタ成膜が可能です。
・基本機能を追求した最高のコストパフォーマンス
・φ4インチ基板
・RF電源による金属、絶縁膜成膜可能
・ターボ分子ポンプ搭載による高真空
・面内分布保証
・卓上型で取扱容易

基本仕様

スパッタ方向 サイド、アップ、ダウン
スパッタ電源 RF300W
ターゲット φ2インチ×1
基板ホルダー φ4インチ
基板回転 5rpm
真空ポンプ TMP+ロータリーポンプ
到達真空度 9×10-5Pa以下
ガス導入 1系統
シャッター 有(手動)
面内分布 ±5%

構成

装置はマッチングボックス、TMPを搭載した成膜装置本体部、電源部ロータリーポンプから構成されています。

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